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全自动双腔半导体快速退火炉RTP

所属分类:快速退火炉

RTP-DTS-8全自动双腔快速退火炉是在保护气氛下的全自动立式快速退火系统,以红外可见光加热单片 Wafer或样品,工艺时间短,控温精度高,适用6寸8寸片快速热退火制程。

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RTP-DTS-8全自动双腔快速退火炉是在保护气氛下的全自动立式快速退火系统,以红外可见光加热单片 Wafer或样品,工艺时间短,控温精度高,适用6寸8寸片快速热退火制程。相对于传统扩散炉退火系统和其他RTP系统,其独特的腔体设计、先进的温度控制技术和独有的RL900软件控制系统,确保了极好的热均匀性。


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