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真空等离子镀膜机

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真空等离子镀膜机(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition),是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。



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