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半导体行业

  • 实验室桌面型快速退火炉RTP

    实验室桌面型快速退火炉RTP

    RTP快速退火炉是一种广泛应用在IC晶圆、LED晶圆、MEMS、化合物半导体、欧姆接触快速合金、离子注入退火、氧化物/氮化物生长等工艺中的加热设备,能够在短时间内将半导体材料迅速加...

    2024-06-28
  • 多功能桌面型快速退火炉:高效退火,精准测温

    多功能桌面型快速退火炉:高效退火,精准测温

    在半导体制造中,快速热处理(RTP)被认为是半导体制程的一个重要步骤。因为半导体材料在晶体生长和制造过程中,由于各种原因会出现缺陷、杂质、位错等结构性缺陷,导致晶格不完整,施加电场...

    2024-06-13
  • 如何选择合适的快速退火炉载盘材质

    如何选择合适的快速退火炉载盘材质

    半导体快速退火炉(RTP)是一种特殊的加热设备,能够在短时间内将半导体材料迅速加热到高温,并通过快速冷却的方式使其达到非常高的温度梯度。在快速退火炉中,选择合适的载盘材质对于退火效...

    2024-05-06
  • 晶圆制造过程中,快速退火炉的用途是什么

    晶圆制造过程中,快速退火炉的用途是什么

    快速退火炉利用卤素红外灯作为热源,通过快速升温将材料加热到所需温度,从而改善材料的晶体结构和光电性能。其特点包括高效、节能、自动化程度高以及加热均匀等。此外,快速退火炉还具备较高的...

    2024-04-25
  • RTP快速退火炉的分类和优势

    RTP快速退火炉的分类和优势

    RTP快速退火炉的快速升温过程和短暂的持续时间能够修复晶格缺陷,进而激活杂质,优化离子注入工艺后的导电性能。

    2024-04-17
  • 快速退火炉在化合物半导体上的应用(RTP SYSTEM)

    快速退火炉在化合物半导体上的应用(RTP SYSTEM)

    碳化硅(SiC)是制作半导体器件及材料的理想材料之一,但其在工艺过程中,会不可避免的产生晶格缺陷等问题,而快速退火可以实现金属合金、杂质激活、晶格修复等目的。在近些年飞速发展的化合...

    2024-03-22
  • 快速退火工艺在欧姆接触中的应用RTP

    快速退火工艺在欧姆接触中的应用RTP

    作为新一代半导体的代表材料,氮化镓(GaN)具有大禁带宽度、高临界场强、高热导率、高载流子饱和速率等特性,是制造高功率、高频电子器件中重要的半导体材料。

    2024-03-22
  • 微波等离子在半导体去胶的应用

    微波等离子在半导体去胶的应用

    半导体加工工艺及其它薄膜加工工艺过程中,各类光刻胶的等离子去除,去除材料表面污染物,保证与其他材料的结合能力。

    2024-03-13
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